フォトマスク用基板（合成石英マスク材）
フォトマスクは半導体デバイス製造工程でウエハーに回路を転写するための回路原版で半導体製造工程に欠かせない主要部材です。
回路パターンのデータを電子ビーム描画でマスク基板にパターンを形成させます。その基盤となるマスクの材料が合成石英硝子です。
合成石英は異物や泡もほとんど含まれていない為、真空紫外領域～赤外領域の広い波長領域で優れた光の透過性を有しています。光の透過性が良いので露光装置（ステッパー）でウエハーに回路を焼き付けるフォトマスクの材料として合成石英が使われます。
また、近年では合成石英のウエハーで表面の平坦度を高精度に加工したものの用途も増えています。