よくあるご質問

半導体部品の洗浄工程は脱脂洗浄、フッ酸洗浄、純水洗浄、乾燥などの工程があります。フッ酸は純水で希釈し、濃度、汚れに合わせて洗浄の時間は調整されます。

半導体製造に使われる部品の洗浄工程は、それぞれの基準が細かく設けられている場合が多いです。

• 脱脂洗浄：部品表面の有機物質の付着量の基準
• フッ酸洗浄：表面エッチングされた量の基準
• 純水洗浄：表面粒子（パーティクル）の量の基準

これらの洗浄のプロセスについては、業界基準や国際基準はなく、ユーザー毎、装置メーカー毎で規定されており公開はされません。各工場における洗浄プロセスの取り決めに従って行われます。